納米氧化鈰研磨液 產品特征： SHNP系列納米氧化鈰拋光質量穩(wěn)定，粒度可控，顆粒度分布集中，并具有以下特點： 1、 軟硬度適中、不劃傷被拋物面。 2、 懸浮性好，不易沉淀，使用方便。 3、 分散性好、乳液均一，極大提高了拋光效率和精度。 適用領域： 適用于DSTI-CMP、集成電路光掩模、高精密光學儀器、光學鏡頭、液晶顯示屏、多芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光。 技術指標： 型號 粒度(D：50，μm) 濃度（wt％） PH 適 用 SHNP-08 0.05-0.09 20-40 7-9 DSTI-CMP等 SHNP-2 0.1-0.2 20-40 7-9 DSTI-CMP等 SHNP-4 0.3-0.4 20-40 7-9 高精密光學儀器等 SHNP-6 0.5-0.6 20-40 7-9 高精密光學儀器等 SHNP-8 0.7-0.8 20-40 7-9 高精密光學儀器等 SHNP-10 0.9-1.0 20-40 7-9 高精密光學儀器等 SHNP-12 1.1-1.2 20-40 7-9 多芯光纖連接器等 SHNP-15 1.3-1.5 20-40 7-9 多芯光纖連接器等 備注：以上也可根據用戶需要不同濃度和不同粒度而調整。 注意事項： 1． 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。 2． 使用時，以不同濃度并據不同行業(yè)的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調制不同濃度。 儲 存：本品需在0℃以上儲存，防止結塊，在0℃以下因產生不可再分散結塊而失效。 包 裝：1 L/瓶、5 L/瓶、20 L/瓶，或據客戶要求。